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摄像模组指纹模组清洗方案 合明科技公司

2023/6/9 11:30:29发布38次查看
指纹模组、摄像模组的制造工艺非常复杂,涵盖了smt、cob等高要求的制程工艺,同时产品的技术要求非常高,可靠性非常高,这就带来了在制程过程中,必须要能够达到制程要求、达到组件可靠性技术指标。
1. 以机械力或加热方式将微相因子激活;
2. 微相分子从基材表面去除污染物并将其转移到水相环境中;
3. 将污染物从清洗剂中过滤出来,清洗剂具有其长的使用寿命;
4. 无表面活性剂成分和无固含量配方使其不会在基材上留下残留物;
5. 长的清洗寿命 能够为用户提供稳定的工艺窗口
摄像模组主要清洗工艺
水基清洗工艺应用在摄像模组行业现已有超过十年,与摄像模组相关的产品涵盖pc-摄像头、监控摄像头、手机摄像头、车载摄像头等,这些行业合明科技现已服务多年,具备优良的技术和丰富的行业经验。
模组是影像捕捉至关重要的电子器件。为了摄像模组、指纹模组的高可靠性、稳定性和后续使用寿命,提升模组各工艺制程的成品率,避免污染物污染造成产品报废,需要清除摄像模组、指纹模组表面的工艺污染物,如各类锡膏残留、助焊剂残留、油污、手印、金属氧化层及静电粒子和particle等。
摄像模组在经历smt工艺以后,锡膏残留物自然而然就产生了,先要将smt工艺后的残留物彻底清洗干净,避免将来pcba线路板电化学迁移和化学性。在清洗过程中常用的有两种工艺,种是通过式清洗机大批量的生产工艺安排;二是批量式的超声波或者喷淋清洗工艺,标准的方式,大部分可设置为2清洗+2漂洗。
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以合明水基清洗剂 w3000系列 为例,具有宽大的应用窗口,的清洗力,良好的兼容性,可以有效解决上述案例问题。
w3000系列
以水为清洗介质主体,采用复合相变技术,微相因子从基材表面去除污染物并将其转移到周围的水相环境中,污染物可以被简单地从清洗液中过滤出来。
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